「共同利用設備」熱処理，測定，成膜，加工
- 【測】赤外域多入射角分光エリプソメータ
- 【測】触針式表面段差計（x方向の試料表面形状測定）
- 【測】紫外-可視-近赤外 分光光度計＋自動測定ユニット
- 【測】白色光干渉顕微鏡（xy面内の試料表面形状測定）
- 【成】HC-PECVD装置
- 【成】DCパルススパッタ装置
- 《学科共用》抵抗加熱蒸着装置＠406
- 《学科共用》マスクアライナー＠405
- 《学科共用》ダイヤモンドホイールソー＠107
- 《学科共用》RFマグネトロンスパッタ装置＠406
「研究室設備」熱処理，測定，成膜，加工
- 【熱】電気マッフル炉
- 【熱】温湿度環境試験機
- 【測】紫外-可視-近赤外 分光光度計＋手動測定ユニット
- 【測】Hazeメータ(曇り度計)《解放設備》
- 【成】電子ビーム(EB)蒸着装置《解放設備》
- 【成】抵抗加熱蒸着装置
- 【成】(緑の)RFマグネトロンスパッタ装置
- 【成】(白の)RFマグネトロンスパッタ装置
- 【加】精密研磨装置
- 【加】卓上ボール-フライス盤《解放設備》
- 【加】レンズドファイバ加工装置
- 【加】ダイシングソー
「光学薄膜」基本式
- 【膜】薄膜や基板の分光測定における干渉性判別条件
- 【膜】薄膜の ”干渉/非干渉の反射/透過” の関係式；適切な膜厚条件
- 【膜】無吸収膜の分光ピーク反射率から屈折率を算出する手順＿演習付
- 【膜】無吸収膜or弱吸収膜の分光ピーク波長から屈折率を算出する手順＿演習付
- 【膜】弱吸収膜の分光スペクトルから光学定数(n-jκ)を算出する手順
- 【膜】弱/強吸収膜(n-jκ)の反射/透過の式
- 【基板】無吸収基板の反射/透過の式＿演習付
- 【基板】弱吸収基板の反射/透過の式
「光学定数データ」波長vs屈折率n，消衰係数κ