SiO₂薄膜に着目し、熱に弱いPET基板にも成膜可能なHC-PECVD装置やDCパルススパッタ装置を用いて成膜し、カルシウム腐食法や赤外分光エリプソメトリを駆使して膜のバリア性能（水蒸気透過度：WVTR）を評価してきました。
利用する研究設備
作製＆加工装置： HC-PECVD装置 DCパルススパッタ装置 抵抗加熱蒸着装置 自作グローブボックス
計測装置： 可視分光光度計FT-IR赤外分光計 赤外分光エリプソメータ 触針式表面段差計 XPS 環境試験機 光学顕微鏡 カメラ
解析ソフトウェア：
その他： 超音波洗浄器 化学薬品
研究報告
【HC-PECVD成膜】
- 大谷毅, 大桐巧, 依田秀彦, “HC-PECVD成膜されたSiO2薄膜の残留応力と赤外透過率測定,” 応用物理学会春季学術講演会, 25p-E104-7, 2022年3月.
- 大谷毅, 依田秀彦, “HC-PECVD成膜されたSiO2薄膜の特性,” 応用物理学会春季学術講演会, 18a-Z17-11, 2021年3月.
【DCパルススパッタ成膜】
- 佐々木発輝, 依田秀彦, 大谷毅, “Si細線用ダウンテーパ型スポットサイズ変換器に形成したリッジ導波路部の光学特性評価,” 第11回電気学会東京支部栃木・群馬支所合同研究発表会, ETT-21-49, 2021年3月.
- 佐々木発輝, 鳴瀬皓之, 依田秀彦, 大谷毅, 田中一郎, “DCパルススパッタによるa-SiOxNy成膜とその屈折率制御,” 第10回電気学会東京支部栃木・群馬支所合同研究発表会, ETT-20-77, 2020年3月.
- 鳴瀬皓之, 大谷毅, 依田秀彦, “多層膜と微細周期パターンによる干渉機能を用いた大面積発色素子の試作,” 大学コンソーシアムとちぎ第15回学生＆企業研究発表会, P-5, 2018年12月.
- 漆原陸, 大谷毅, 依田秀彦, “反応性スパッタ法による膜質制御と光学素子への応用,” 大学コンソーシアムとちぎ第15回学生＆企業研究発表会, 4-12, 2018年12月.